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OTF-1200X-5L-R-CVD是一款旋轉(zhuǎn)CVD爐。爐體有3個加熱區(qū)，可提高溫度均勻性，同時配有4通道的精密混氣系統(tǒng)。此款管式爐設(shè)計主要用于電池粉體材料表面包覆或其他粉體材料表面修飾。設(shè)備相關(guān)論文（點擊查看）

OTF-1200X-4-R-II-AF是一款4英寸雙溫區(qū)回轉(zhuǎn)CVD管，安裝有自動送料器和收料罐。自動可定份額地將粉料送入到爐管中，此過程可在氣氛保護環(huán)境下進行，可實現(xiàn)用連續(xù)CVD方法對粉體材料進行包覆和修飾。收料罐可在氣氛保護環(huán)境下對處理好的粉料進行收集。此款管式爐設(shè)計主要是在鋰離子電池的陰極材料（如LiFePO3, LiMnNiO3）上包覆導(dǎo)電層，同時也可用CVD方式制備 Si/C 陽極材料。

OTF-1200X-50-II-4CV-PE-MSL是一款雙溫區(qū)的PE-CVD管式爐系統(tǒng)，組成部分為500W的射頻發(fā)生器、滑動速度可控的雙溫區(qū)滑軌爐，預(yù)熱爐（作用為使固體原料蒸發(fā)）和德國進口的無油泵。此款PE-CVD對于生長納米線或用CVD,方法來制作各種薄膜是一款新的探索工具。

OTF-1200X-S2-50SL是一款小型的雙爐體滑動管式爐，爐管為Φ50×1400mm的石英管，并配有不銹鋼密封法蘭，儀器Z高溫度可以達到1200℃。兩個爐體可在滑軌上滑動，實現(xiàn)對原材料的蒸發(fā)/升華，及薄膜沉積。通過爐體的滑動可實現(xiàn)對樣品快速加熱，Z大升溫速率為100℃/min.同時可選擇電動滑軌、質(zhì)量流量計（MFC）控制的供氣系統(tǒng)和等離子射頻電源來搭建TCVD系統(tǒng)。

GSL-1700X-4-HVC是一款CE認(rèn)證的二通道高真空CVD系統(tǒng)，其爐管直徑為4英寸，它是由二路質(zhì)子混氣系統(tǒng)和高真空機組組成，其Z高工作溫度可達1600℃，極限真空度可達 to 10^-5 torr?；鞖庀到y(tǒng)可以對兩種氣體進行精確的混氣，然后導(dǎo)入到管式爐內(nèi)部。

OTF-1200X--HVC是由OTF-1200X-單溫區(qū)管式爐，二路質(zhì)子混氣系統(tǒng)和高真空機組組成。其Z高工作溫度可達1200℃，極限真空度可達 to 10^-5 torr。混氣系統(tǒng)可以對兩種氣體進行精確的混氣，然后導(dǎo)入到管式爐內(nèi)部。