當前位置:首頁 > 產(chǎn)品中心 > 薄膜制備全套設(shè)備 > 蒸發(fā)鍍膜設(shè)備
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GSL-1100X-15E是一款小型真空鍍膜儀,特別適合蒸鍍一些輕金屬,如 Al. Mg, 和Li等。同時也可對樣品進行鍍碳處理,Z大可處理的樣品直徑為50mm.。
GSL-1800X-ZF4是一款高真空的蒸發(fā)鍍膜儀,特別適合蒸鍍一些對氧較敏感的金屬膜,如Ti, Al 和Au等,也可蒸鍍各種氧化物材料。此款蒸鍍儀安裝有4個蒸鍍加熱頭.對于實驗研究,這是一款鍍膜效果理想并且性價比較高的實驗設(shè)備。
OTF-1200X-RTP-II是一款快速蒸發(fā)管式爐,專門針對于用PVD或CSS法來制作薄膜。此款管式爐爐管直徑為11" OD,爐管內(nèi)載樣盤可放置3" 的圓形或2"x2"的方形基片。加熱元件為兩組紅外燈管,分別安裝在腔體的頂端和底部,其升溫速率高達20?C/S 。溫控系統(tǒng)為PID30段程序化控制,控溫精度為+/-1?C。儀器面板上帶有RS485接口,若儀表內(nèi)配有控溫軟件,就可將升溫程序和曲線導(dǎo)出
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