當前位置:首頁 > 產(chǎn)品中心 > 薄膜制備全套設(shè)備 > 雙靶磁控濺射儀 > VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀
簡要描述:雙靶磁控濺射儀是一款帶有兩個靶頭的磁控濺射鍍膜儀,其中一個靶頭采用直流(DC)濺射,可濺射金屬靶材制備金屬膜,另一個采用射頻(RF)濺射,可濺射金屬和氧化物靶材,制備金屬或氧化物膜.設(shè)備上安裝有薄膜測厚儀可以實時監(jiān)測薄膜的厚度。此設(shè)備可制作各種單層或多層薄膜,如鐵電、導電,合金,半導體,陶瓷,介電,光學,氧化物和PTFE薄膜等。而且設(shè)備體積較小操作方便,是一套理想的實驗工具。
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儀技術(shù)參數(shù)
結(jié)構(gòu) | (點擊圖片查看詳細資料) |
輸入電源 |
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濺射電源 |
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磁控濺射頭 |
也可以根據(jù)自己的要求選擇2個射頻濺射頭或3個射頻濺射頭,訂購前需于本公司銷售人員 |
真空腔體 |
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載樣臺 |
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氣體流量控制器
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真空泵系統(tǒng) | 配有一套分子泵系統(tǒng)(德國制作),采用一鍵式操作
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薄膜測厚儀 |
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外形尺寸 | L1300mm× W660mm× H1200mm |
重量 | 160 kg |
質(zhì)保期 | 一年質(zhì)保期,終生維護 |
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