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500W直流等離子磁控濺射鍍膜儀--VTC-2DC

簡(jiǎn)要描述：VTC-2DC是一款小型的直流（DC）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng)，系統(tǒng)中包含了所有所需的配件，如500W（600V）的DC電源、2英寸的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對(duì)于制作一些金屬薄膜，它是一款物美價(jià)廉的實(shí)驗(yàn)手。

  • 產(chǎn)品型號(hào)：
  • 廠(chǎng)商性質(zhì)：生產(chǎn)廠(chǎng)家
  • 更新時(shí)間：2024-10-21
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量：3021

詳細(xì)介紹

VTC-2DC是一款小型的直流（DC）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng)，系統(tǒng)中包含了所有所需的配件，如500W（600V）的DC電源、2英寸的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對(duì)于制作一些金屬薄膜，它是一款物美價(jià)廉的實(shí)驗(yàn)手。
用直流磁控濺射儀可獲得單相Al膜

 技術(shù)參數(shù)

輸入電源

  • 220VAC 50/60Hz, 單相
  • 1000W  (包括真空泵）

等離子源

  • 一個(gè)500W，600V的直流電源安裝在移動(dòng)柜內(nèi)(點(diǎn)擊圖片查看詳細(xì)資料）

磁控濺射頭

  • 一個(gè)2英寸磁控濺射頭（帶有水冷夾層），采用快速接頭與真空腔體相連接
  • 靶材尺寸: 直徑為50mm,zui大厚度1.5mm
  • 一個(gè)快速擋板安裝在法蘭上（手動(dòng)操作，見(jiàn)圖左3）
  • 濺射頭所需冷卻水：流速10ml/min（儀器中配有一臺(tái)流速為16ml/min的循環(huán)水冷機(jī)）
  • 同時(shí)可選配1英寸濺射頭
       

真空腔體

  • 真空腔體：160 mm OD x 150 mm ID x  250mm H，采用高純石英制作
  • 密封法蘭:直徑為165 mm .  采用金屬鋁制作，采用硅膠密封圈密封
  • 一個(gè)不銹鋼網(wǎng)罩住整個(gè)石英腔體，以屏蔽等離子體
  • 真空度：10-3 Torr （采用雙極旋片真空泵）， 10-5 torr （采渦旋分子泵）

載樣臺(tái)

  • 載樣臺(tái)可旋轉(zhuǎn)（為了制膜更加均勻）并可加熱
  • 載樣臺(tái)尺寸：直徑50mm （zui大可放置2英寸的基片）
  • 旋轉(zhuǎn)速度：1 - 20 rpm
  • 樣品的zui高加熱溫度為700℃，(短期使用，恒溫不超過(guò)1小時(shí))，長(zhǎng)期使用溫度500℃
  • 控溫精度+/- 10℃

真空泵

可選用直聯(lián)式雙極旋片泵,也可選用德國(guó)制作的分子泵系統(tǒng)
      

薄膜測(cè)厚儀

  • 一個(gè)精密的石英振動(dòng)薄膜測(cè)厚儀安裝在儀器上，可實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)薄膜的厚度，分辨率為0.10 ?  
  • LED顯示屏顯示，同時(shí)也輸入所制作薄膜的相關(guān)數(shù)據(jù)
     

外形尺寸

     

重量70Kg

質(zhì)保和質(zhì)量認(rèn)證

  • 一年質(zhì)保期，終生維護(hù)
  • CE認(rèn)證

使用注意事項(xiàng)

  • 為了得到較好的金屬膜，特別是針對(duì)易氧化的金屬，如Al, Mg和Li等，必須通入高純惰性氣體（> 5N）
  • 強(qiáng)烈建議采用PPM極的氣體凈化系統(tǒng)（將鋼瓶中的惰性氣體通過(guò)凈化系統(tǒng)過(guò)后，再導(dǎo)入到真空腔體內(nèi)）
  • 我們也可在設(shè)備中安裝射頻(RF)電源，用于濺射非導(dǎo)電靶材，來(lái)制備非金屬薄膜
      

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