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管式爐是在沉底材料上生長優(yōu)質石墨烯、碳納米管和碳化硅的專用設備，廣泛應用于半導體、納米材料、碳纖維、碳化硅、涂層等新材料和新工藝。它在使用前需要做好哪些準備工作呢？1、設計溫度升降曲線。升溫速率不得高于10℃/min，降溫速率應低于15℃/min。2、清潔環(huán)境。3、每周開始使用時，檢查機械泵油路是否在標線以上，取下兩端蓋板，用吸塵器清潔剛玉爐管。4、將樣品舟推入剛性管式爐中間（恒溫長度10cm）。5、塞住兩個絕緣爐塞，使第二個爐塞的末端與爐體側面齊平。6、安裝燃氣爐法蘭，確認...

真空鍍膜設備主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程(散點-島狀結構-迷走結構-層狀生長)形成薄膜。對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且最終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過蒸發(fā)鍍膜設備+所鍍產(chǎn)品圖蒸發(fā)鍍...

噴涂一直存在于我們的生活中，長期以來被用于多種用途，包括噴涂裝飾性和保護性涂料。因此，它是材料科學家制備薄膜的又一工具。在噴涂中，噴嘴尺寸、噴涂形狀、噴嘴到基材的距離、噴涂速度和噴涂過程中基材的加熱都是可控的參數(shù)，以達到理想效果。使用超聲波霧化模塊，可使噴霧溶液均質化，霧滴大小得到有效控制（噴嘴頻率會影響霧滴大?。?，可分布微霧量，從而保證成分和結構的均勻性和所得薄膜和圖案的準確性。材料浪費保持在低限度，設備操作人員的風險很小。超聲波霧化模塊的工作原理是利用超聲波換能器將高頻聲...

電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發(fā)生碰撞，電離出大量的氬離子和電子，電子飛向基片。氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜。二次電子在加速飛向基片的過程中受到磁場洛侖磁力的影響，被束縛在靠近靶面的等離子體區(qū)域內，該區(qū)域內等離子體密度很高，二次電子在磁場的作用下圍繞靶面作圓周運動，該電子的運動路徑很長。磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應用對象。但有一共同點：利用磁場與電場交互作用，使電子在靶表面附近成...

直流等離子磁控濺射鍍膜儀是一種小型直流（DC）等離子磁控濺射鍍膜系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括所有必需的附件，如500W（600V）直流電源、2英寸磁控濺射頭、石英真空室、真空泵和溫度控制器。主要由濺射真空室、磁控濺射靶材、樣品臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機和真空測量裝置組成。高真空濺射可用于制備金屬、半導體、絕緣體等薄膜材料。具有設備簡單、易控制、涂布面積大、附著力強等優(yōu)點，可用于大專院校和科研院所的薄膜材料的研究和制備。直流等離子磁控濺射鍍膜儀濺射鍍膜的原理是異常輝光放電中的稀有氣體產(chǎn)...

采用新型保溫材料的箱式爐具有體積小、重量輕、保溫效果好、升溫速度快等優(yōu)點。面板材質為不銹鋼；外形美觀，操作簡單，維護方便，爐后設有可控煙囪；適用于煤、焦化產(chǎn)品和化工原料的化學分析。五面加熱（左、右、前、后、下）可獲得均勻的溫度場。1、雙熱電偶雙儀表控溫檢測，確保不發(fā)生超溫實驗事故。2、爐膛材料采用高純氧化鋁纖維（表面涂有美國進口高溫氧化鋁涂層，可提高加熱效率、反射率、爐膛清潔度，延長使用壽命）。3、采用雙層殼體結構和風冷系統(tǒng)，使殼體表面溫度低于60℃。4、爐體頂部有排氣孔，可...

等離子清洗機廣泛應用于等離子清洗、蝕刻、等離子電鍍、等離子鍍膜、等離子灰化和表面改性。通過它的處理，可以提高材料表面的潤濕性，從而可以對多種材料進行涂層、電鍍等操作，增強附著力和結合力，同時去除有機污染物、油或油脂。等離子清洗裝置包括四個主要部件：激發(fā)電源、真空泵、真空室和反應氣源。激勵源是為氣體放電提供能量的電源，可以采用不同的頻率；真空泵的主要作用是去除副產(chǎn)品，包括旋片機械泵或增壓泵；以及在真空室中進行放電電離的電極。反應氣體轉化為等離子體。反應氣體通常為氬氣、氧氣、氫氣...