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1800℃小型箱式爐適用于實(shí)驗(yàn)室、工礦企業(yè)、科研院所、大專院校供暖，用于一般小型鋼件及淬火、退火、回火等熱處理的元素分析和測定，還可用于金屬、陶瓷的燒結(jié)、溶解、分析等高溫加熱。外殼采用優(yōu)質(zhì)冷軋鋼板，表面噴涂。箱式爐的外殼由薄鋼板折疊焊接而成，其爐膛由高鋁耐火材料制成的箱形爐襯組成。發(fā)熱元件采用鐵鉻鋁合金絲，繞成螺旋狀后擰入爐襯的上、下、左、右線槽內(nèi)。發(fā)熱元件與線槽連接，可直接向爐體散熱。這樣可以有效加快爐子的加熱速度，進(jìn)一步提高溫度控制精度。硅酸鋁纖維氈、硅藻、土磚也用作箱式...

1200℃開啟式管式爐爐管可以配置為60mm或80mmO.D.的高純度剛玉管。爐管兩端安裝了一對(duì)不銹鋼真空法蘭（不銹鋼針閥和寶塔噴嘴接頭），因此樣品可以在真空或大氣保護(hù)下進(jìn)行燒結(jié)。精確的溫控系統(tǒng)包括30條溫升和溫降曲線設(shè)置，其溫控精度達(dá)到+/-1℃。1200℃開啟式管式爐開爐的操作規(guī)程是怎樣的？1、打開管式爐的主電源，啟動(dòng)風(fēng)扇。2、打開面板電源（順時(shí)針轉(zhuǎn)動(dòng)鎖定旋鈕），啟動(dòng)面板。3、使儀器處于初始狀態(tài)（即PV顯示數(shù)值，SV閃動(dòng)停止）。如果不在此狀態(tài)，按向上鍵重置儀器，使儀器只處...

真空蒸鍍，簡稱蒸鍍，是指在真空條件下，采用一定的加熱蒸發(fā)方式蒸發(fā)鍍膜材料(或稱膜料)并使之氣化，粒子飛至基片表面凝聚成膜的工藝方法。蒸鍍是使用較早、用途較廣泛的氣相沉積技術(shù)，具有成膜方法簡單、薄膜純度和致密性高、膜結(jié)構(gòu)和性能等優(yōu)點(diǎn)。真空蒸鍍的流程工藝1、脫脂處理用丙酮或酒精進(jìn)行清洗2、表面處理(必要時(shí))電暈(corona)放電處理，紫外線照射處理等。3、底面涂布/硬化處理(必要時(shí))為了得到精美的蒸鍍膜，有時(shí)必須進(jìn)行底面涂布處理。進(jìn)行底面涂布處理可以得到以下的效果:(1)、改善...

箱式爐的控制系統(tǒng)與爐子融為一體，爐襯由真空成型的高純度氧化鋁高分子輕質(zhì)材料制成。采用高溫合金電阻絲（含鉬，爐絲表面溫度可達(dá)1400℃）或硅碳棒作為加熱元件；控制面板上裝有智能溫度調(diào)節(jié)器、控制電源開關(guān)、主加熱工作/停止按鈕、電壓、安培表、電腦接口，以便隨時(shí)觀察系統(tǒng)的工作狀態(tài)。本產(chǎn)品采用可靠的集成電路，具有良好的工作環(huán)境和抗干擾性。爐殼最高溫度≤45℃時(shí)，工作環(huán)境大為改善。微電腦程序控制，可編程曲線，全自動(dòng)加熱/冷卻，運(yùn)行中可修改溫度控制參數(shù)和程序，靈活、方便、易操作。箱式爐采用...

退火爐是通過熱處理可以改變鋼的組織結(jié)構(gòu)，從而改善鋼的性能。熱處理可以顯著提高鋼的機(jī)械性能，延長機(jī)器零件的使用壽命。退火爐是冷軋連續(xù)熱鍍鋅生產(chǎn)線中的重要設(shè)備，爐內(nèi)氣氛直接影響產(chǎn)品的表面質(zhì)量。爐內(nèi)氣氛的好壞在很大程度上取決于爐子本身的氣密性。連續(xù)退火爐氣密性檢查的難點(diǎn)主要在于爐體面積大，管道復(fù)雜，可能出現(xiàn)泄漏的部位繁多。對(duì)氣密性的檢查要常規(guī)化、制度化。1、確定氣密性檢查的重點(diǎn)部位這些重點(diǎn)部位一般包括：1)檢修時(shí)更換設(shè)備的部位。檢修時(shí)動(dòng)過的爐體和管道部分，都要作為檢查的關(guān)鍵部位。2...

表面工程是指對(duì)材料表面進(jìn)行預(yù)處理后，改變金屬表面或非金屬表面的形貌、化學(xué)成分、微觀結(jié)構(gòu)和結(jié)構(gòu)，獲得表面特征的表面涂層、表面改性或各種表面工程固體復(fù)合處理技術(shù)。表面工程技術(shù)分為三大類：表面合金化、表面涂層和薄膜涂層技術(shù)和表面處理。表面合金化：包括噴焊和堆焊、離子注入、轉(zhuǎn)化膜技術(shù)、擴(kuò)散滲透、激光熔鍍、熱滲透鍍等表面鍍膜和膜鍍技術(shù)：包括電化學(xué)沉積、化學(xué)沉積、氣相沉積、熱噴涂、電沉積電鍍、化學(xué)轉(zhuǎn)化處理、刷鍍、化學(xué)鍍、氣相沉積、涂層和堆焊、金屬染色、熱浸鍍等表面處理：包括激光電子束熱處...

高真空蒸發(fā)鍍膜儀可提供大100A鍍膜電流，大蒸發(fā)溫度高達(dá)1800℃，可滿足各種普通金屬和部分非金屬的蒸發(fā)。真空室采用高純石英，易于觀察鍍膜過程，易清洗；結(jié)合分子泵組，可達(dá)到5x10-4pa的極限真空度，有效保證氣相沉積膜的純度和附著力。全自動(dòng)程序控制，彩色觸摸屏界面，操作簡單，可鍍金（AU）、鉑（PT）等非氧化性貴金屬，也可鍍銥（IR）、鉻（CR）、鋁(AL)等細(xì)小顆粒易氧化膜材料。特別適用于場發(fā)射電鏡、透射電鏡樣品制備和非晶碳包覆膜/TEM網(wǎng)格支撐膜的制作，也可為薄膜應(yīng)用等...