小型蒸鍍儀蒸發(fā)鍍膜包括以下基本工藝：

　　

　　1、加熱蒸發(fā)過程：包括將凝相變?yōu)闅庀嗟倪^程。每種蒸發(fā)物質(zhì)都有不同的溫度飽和蒸氣壓。

　　

　　2、氣態(tài)原子或分子在蒸發(fā)源與基板之間的傳輸，即原子或分子在環(huán)境大氣中的飛行過程。

　　

　　3、在基板表面蒸發(fā)原子或分子的沉積過程。即蒸發(fā)、凝結(jié)、成核和核生長，形成連續(xù)的薄膜。由于基板溫度遠低于蒸發(fā)源溫度，因此氣態(tài)分子會在基板表面發(fā)生從氣態(tài)到固態(tài)的相變過程。

　　

　　小型蒸鍍儀的使用可分為四個步驟，即氣相沉積前的準(zhǔn)備、氣相沉積設(shè)備的預(yù)熱、薄膜的氣相沉積和停機。

　　

　　1、蒸發(fā)前的準(zhǔn)備工作：

　　

　?。?）打開充氣閥，給鐘罩充氣，然后提起鐘罩；

　　

　　（2）根據(jù)鐘罩是否干凈，先用酒精清洗鐘罩內(nèi)的零件；

　　

　?。?）安裝鉬舟，將鋁絲放入鉬舟中，將待沉積的基材粘在鋁板上；

　　

　?。?）鐘罩下降時，觀察鐘罩下降時鐘罩內(nèi)是否有物體、雜物。

　　

　　2、氣相沉積儀的預(yù)熱：

　　

　?。?）啟動機械泵，將鐘罩抽出，接低真空測量，直到鐘罩內(nèi)的真空度降至5pa以下；

　　

　?。?）調(diào)節(jié)螺桿至10-20Pa，此時可對蒸鍍基板材料進行轟擊。如果不需要轟擊，則直接進行下一步。轟擊時間根據(jù)需要控制，主要用于處理沉積基板的表面。轟擊結(jié)束后，將轟擊撥盤置零，然后將撥盤的“轟擊”檔轉(zhuǎn)至“關(guān)”檔；

　　

　　（3）將低壓閥推至泵送系統(tǒng)。當(dāng)壓力低于5pa時，啟動擴散泵，預(yù)熱40分鐘。

　　

　　3、蒸發(fā)膜：

　　

　?。?）預(yù)熱后，打開高閥。大約40-60秒后，開啟高真空測量（打開燈絲），將低真空測量切換到擴散泵的前級測量。當(dāng)真空度達到2-3×10-3時，滿足蒸發(fā)的真空度要求；

　　

　?。?）打開“工件轉(zhuǎn)動”齒輪，按要求調(diào)節(jié)“工件轉(zhuǎn)動”的速度（接觸調(diào)壓值20-30）；

　　

　?。?）開啟烘烤，調(diào)整所需溫度，根據(jù)實際需要設(shè)定烘烤時間。如果不需要烘烤，可以進行下一步氣相沉積實驗；

　　

　?。?）選擇放置電極的位置，打開“蒸發(fā)”齒輪，在相應(yīng)的電極位置插入“銅絞”，開始加大電流（約180A）溶解蒸發(fā)的物質(zhì)。當(dāng)發(fā)現(xiàn)已經(jīng)熔化時，擋板會擋住蒸發(fā)源。*熔化后，打開擋板，讓材料蒸發(fā)到基材表面；

　　

　　（5）蒸發(fā)后，所有齒輪應(yīng)歸零。關(guān)閉高真空測量，關(guān)閉高閥，拔出低閥至“抽出鐘罩”位置，停止機械泵，待工件冷卻后給鐘罩充氣，提起鐘罩，取出零件，并清潔涂層室。

　　

　?。?）如需額外蒸發(fā)，應(yīng)更換基板，并給電極（鉬舟）充電。

　　

　　4、關(guān)機：

　　

　?。?）如果小型蒸鍍儀蒸發(fā)完成，關(guān)閉高真空測量，關(guān)閉高閥，停止擴散泵，在實驗結(jié)束時啟動機械泵。等待2小時冷卻后，將低位閥拉至“鐘罩”位置，使鐘罩內(nèi)保持一定的真空度；

　　

　?。?）關(guān)閉氣相沉積儀總開關(guān)；

　　

　?。?）先關(guān)“進”閥，再關(guān)“出”閥（冷卻水）；

　　

　?。?）關(guān)閉氣相沉積儀電源；

　　

　?。?）關(guān)閉主電源。

　　

　?。?）涂裝實驗結(jié)束后，注意清洗所有零件的原廠零件，退回所有材料，并進行清潔以保持實驗室清潔。