小型蒸鍍儀生產用于SEM和TEM分析的均質導電金屬或碳涂層。配置為濺射鍍膜機或碳絲蒸發(fā)鍍膜機后，可在全自動系統(tǒng)中獲得可重復的結果，具有噴金儀、噴碳儀和蒸發(fā)儀三大功能。石英晶體測量、行星自轉、輝光放電和可更換屏蔽等多種選擇共同構成了這臺低真空鍍膜機。

　　小型蒸鍍儀是一款小型臺式濺射功率可控磁控濺射儀。儀器雖小，功能齊全，但具有電壓電流反饋、樣品臺旋轉、樣品高度調節(jié)、電動擋板等功能。通過定期調整預濺射和薄膜沉積的功率，大多數(shù)金屬可以均勻地物理沉積。真空室由透明石英玻璃制成，以減少樣品污染。可旋轉樣品臺，獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜。.配備直聯(lián)雙回轉機械泵（配備濾油器和防回油裝置），可使真空室真空度達到10-2torr。配備KF25波紋管和夾子，可以鍍碳。

　　1、理想的再現(xiàn)結果

　　運行自動化過程并輔助參數(shù)設置。

　　2、小巧緊湊

　　設計緊湊，占地面積小，節(jié)省實驗室空間。

　　3、易于清潔

　　配有可拆卸門、卷簾、內屏蔽、光源、舞臺。

　　4、操作簡單

　　直觀的觸摸屏和一鍵式操作。

　　小型蒸鍍儀對于對氧氣較敏感的材料的氣相沉積，建議使用渦流分子泵。為了達到更高的無氧環(huán)境，真空室必須用高純惰性氣體清洗至少3次。